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              小型氧化亞硅氣相沉積實(shí)驗(yàn)真空爐


              應(yīng)用領(lǐng)域:動(dòng)力電池負(fù)極材料(氧化亞硅等可氣相沉積材料)
              • 產(chǎn)品描述
                • 商品名稱: 小型氧化亞硅氣相沉積實(shí)驗(yàn)真空爐
                • 商品編號(hào): 1096144086734884864

                應(yīng)用領(lǐng)域:動(dòng)力電池負(fù)極材料(氧化亞硅等可氣相沉積材料)

                1.產(chǎn)品名稱:小型氧化亞硅氣象沉積真空爐
                2.應(yīng)用領(lǐng)域:動(dòng)力電池負(fù)極材料(氧化亞硅等可氣相沉積材料)
                 

                型號(hào)

                裝料尺寸

                裝載量

                工作溫度

                極限溫度

                真空度

                總功率

                氣氛類別

                工序時(shí)長(zhǎng)

                MGB15-85HH

                Φ150 * 850

                0.12M3

                1350°C

                1600

                0.1* 0.5pa

                35KW

                Ar/N2

                16H/爐

                 
                3. 工藝特點(diǎn):三溫區(qū)設(shè)計(jì),陶瓷內(nèi)膽,溫差控制精度3°C,高溫高真空;具備脫水、混煉反應(yīng)、提純等工藝能力。反應(yīng)充分,成品率高(約70-80%)
                ------------------

                真空爐是一種在加工過(guò)程中將爐內(nèi)產(chǎn)品置于真空環(huán)境中的爐。由于沒(méi)有空氣或其他氣體,因此可以防止氧化,防止產(chǎn)品因?qū)α鞫鴵p失熱量,并消除污染源。

                真空爐結(jié)構(gòu)

                真空爐是指在爐室特定的空間內(nèi),利用真空系統(tǒng)(由真空泵、真空測(cè)量裝置、真空閥門等組成)抽除爐室內(nèi)的空氣,使?fàn)t室內(nèi)的壓強(qiáng)小于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,爐室內(nèi)的空間實(shí)現(xiàn)真空,然后對(duì)工件進(jìn)行加熱。真空爐由爐體、真空系統(tǒng)、加熱元件、控溫系統(tǒng)、熱工儀表等部件組成。爐體通常采用不銹鋼或其他合金材料,具有較強(qiáng)的抗腐蝕性和耐高溫性。真空系統(tǒng)主要由機(jī)械泵、分子泵、渦流泵、真空閥門等組成,可達(dá)到較高的真空度。加熱元件一般采用電阻絲、石墨等材料,可對(duì)樣品進(jìn)行快速、均勻的高溫加熱。控溫系統(tǒng)主要由溫度計(jì)、控制器、電源等組成,可實(shí)現(xiàn)對(duì)加熱過(guò)程的精確控制。

                 

                真空爐腔

                真空爐爐腔主要分為不銹鋼爐腔、陶瓷纖維爐腔、鉬箔爐腔、石墨爐腔,最高溫度范圍為750℃至2200℃。

                 

                真空爐加熱元件

                真空爐加熱元件主要分為電阻絲、硅碳棒、鉬絲棒、硅鉬棒、石墨、感應(yīng)線圈等,最高溫度范圍為750℃~2200℃。

                 

                溫控系統(tǒng)

                真空爐溫控系統(tǒng)主要由熱電偶(測(cè)溫)和溫控儀(控溫)組成,主要分為PID可編程控制、觸摸屏控制、PLC全自動(dòng)控制。

                 

                真空系統(tǒng)

                真空系統(tǒng)根據(jù)所需真空度由真空閥門、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、羅茨泵等組成,最高真空度一般為7×10-3Pa。

                 

                水冷系統(tǒng)

                根據(jù)爐室的大小,需要配套的水冷系統(tǒng),以保證真空爐能正常工作。

                 

                密封爐殼

                爐殼必須密封良好,以保證達(dá)到設(shè)計(jì)的真空度。

                真空爐工作原理

                真空爐的簡(jiǎn)單工作原理是通過(guò)真空系統(tǒng)對(duì)爐腔進(jìn)行抽氣,使?fàn)t腔達(dá)到真空狀態(tài),然后加熱元件進(jìn)行加熱,溫控系統(tǒng)控制加熱速度和保溫時(shí)間,使材料在真空狀態(tài)下進(jìn)行加熱。

                真空爐的主要功能是對(duì)材料進(jìn)行熱處理,包括退火、時(shí)效、淬火、固溶處理等處理方式。此外,真空爐還可以用于高溫?zé)Y(jié)、高溫蒸發(fā)、高溫熔煉、高溫碳化等工藝。

                 

                真空爐在許多行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用。以下是一些最常見(jiàn)的應(yīng)用:

                 

                真空爐通常用于熱處理金屬、合金和陶瓷等材料,以提高其強(qiáng)度、硬度和其他性能。

                真空爐可用于釬焊,這是一種使用熔點(diǎn)低于母材的填充材料將兩個(gè)金屬部件連接在一起的過(guò)程。

                真空爐可用于燒結(jié),燒結(jié)是加熱粉末材料形成固體的過(guò)程。

                真空爐可用于化學(xué)氣相沉積 (CVD) 和物理氣相沉積 (PVD) 涂層,涉及將材料薄膜沉積到基材上。

                真空爐可用于退火,即將材料加熱到特定溫度并保持一段時(shí)間以釋放應(yīng)力并提高其延展性。

                真空爐可用于金屬注射成型 (MIM) 部件的脫脂和燒結(jié),這些部件用于醫(yī)療設(shè)備、航空航天、汽車和電子等各種應(yīng)用。

                真空爐可用于各種材料的晶體生長(zhǎng),例如半導(dǎo)體和光學(xué)晶體。

                總體而言,真空爐應(yīng)用于航空航天、汽車、醫(yī)療、能源、電子和研發(fā)等許多行業(yè)。

              關(guān)鍵詞:

              產(chǎn)品咨詢

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